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PVD真空镀
PVD能够实现金属表面镀高硬度、高耐磨的金属陶瓷装饰镀层，PVD真空镀工艺手段是利用物流过程中来沉积薄膜的技术。
电镀
通过电镀的产品能够使镀层光泽度、高品质金属外观，电镀工艺手段是通过电解作用让金属表面附着金属膜从而起到腐蚀的作用，能够提高耐磨性、导电性、反光性、美观性等。
电弧蒸发
此工艺是将被蒸发的固体金属（靶材）置于真空腔室内，产生辉光放电后，在靶材表面运行，靶材在很小的几个微米大小内蒸发，电弧的运动是由磁场所控制的，蒸发出的金属离子形成的等离子体将沉积于工件表面，这些工件是在真空腔内旋转运动，电弧制备的涂层通常被用于工具和零部件的表面涂层，电弧工艺中实现蒸发材料的高度电离，沉积涂层具有优异的附着力。
电弧技术的优点：
高沉积速率(~1-3 µm/h)
高离化率，形成结合力好，致密的涂层
靶材冷却，涂层工件受热较少，这样可以在低于100°C以下沉积
可以蒸发多种成分的金属，剩余固态靶材成分不变
阴极可以放置在任何位置（水平、垂直、上部和下部），设备设计灵活
金属表面前处理在各种热处理、机械加工、运输及保管过程中，不可避免地会被氧化，产生一层厚薄不均的氧化层。同时，也容易受到各种油类污染和吸附一些其他的杂质。
油污及某些吸附物，较薄的氧化层可先后用溶剂清洗、化学处理和机械处理，或直接用化学处理。对于严重氧化的金属表面，氧化层较厚，就不能直接用溶剂清洗和化学处理，而先进行机械处理。
通常经过处理后的金属表面具有高度活性，更容易再度受到灰尘、湿气等的污染。为此，处理后的金属表面应尽可能快地进行胶接。